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Tablero de sustrato de cerámica semiconductora Equipo de recubrimiento de alta gama

Descripción del equipo de recubrimiento de sustrato cerámico semiconductor

Principio: Inyecte una pequeña cantidad de gas argón en un recipiente de campo eléctrico de alto voltaje de alto vacío para ionizar el gas argón y generar un flujo de iones de argón, que se dirige hacia el material objetivo (relacionado con la preparación de la capa compuesta de metal de cobre en la tecnología de procesamiento del sustrato cerámico DPC). Este es un paso en el proceso de tecnología de procesamiento del sustrato de cerámica DPC. Aunque no se describe directamente como específicamente para el equipo de recubrimiento de sustrato de cerámica semiconductora, pertenece al principio del equipo que puede estar involucrado en el proceso de metalización del sustrato cerámico y puede usarse como referencia. El propósito es pulverizar y unir una capa compuesta de metal de cobre en un sustrato de cerámica, que es la base de procesos posteriores como la fabricación de circuitos.
Función en el proceso: Colocar una capa compuesta de metal en el sustrato de cerámica es un preproceso importante para la producción posterior del circuito y otros procesos de sustrato de cerámica DPC. A través de este método, el sustrato de cerámica puede tener una mejor conductividad y otras propiedades, satisfaciendo las necesidades de los semiconductores y otros campos.

Parámetro de producto

Modelo de equipo: HX1314-4MF

Tamaño del equipo: φ1300*H1400

KOTA Technology Limited Company

Sobre nosotros

KOTA Technology Limited Company se estableció en 2012, con un capital registrado de 10 millones de yuanes, es una empresa nacional de alta tecnología.
Con sede en Shanghai, China, la compañía tiene una serie de subsidiarias de propiedad total y de propiedad en Nantong, Yancheng y otros lugares en la provincia de Jiangsu, y ha establecido centros de I + D en China y Japón para diseñar el mercado global. En la actualidad, la compañía se ha convertido en un conocido fabricante doméstico de equipos inteligentes de energía nueva y es una empresa en el campo de los equipos de lámina de cobre de litio en el país. El equipo técnico central de la compañía dirigido por el Sr. Matsuda Mitsuya en Nagoya, Japón, se centra en el desarrollo e integración de equipos de fabricación de alta gama y sistema de automatización en el campo de equipos electromecánicos de alta precisión. A través de la introducción de conceptos japoneses de tecnología avanzada y diseño y la importación de piezas de precisión originales de Japón, los diversos productos de equipos producidos por la compañía se han convertido en puntos de referencia de la industria.

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Conocimiento de la industria

1. ¿Por qué es esencial el equipo de recubrimiento de sustrato de cerámica semiconductores para la producción avanzada de circuitos?
Equipo de recubrimiento de sustrato de cerámica semiconductora está en el corazón de la fabricación moderna de semiconductores, desempeñando un papel fundamental en la mejora del rendimiento y la confiabilidad de los sustratos de cerámica utilizados en dispositivos electrónicos. El proceso de aplicación de una capa compuesta de metal, típicamente de cobre, al sustrato de cerámica es crucial para preparar sustratos que pueden soportar circuitos intrincados y cumplir con los estrictos requisitos de conductividad de los dispositivos semiconductores. Este recubrimiento sirve como base para los pasos posteriores, como la fabricación de circuitos, asegurando que el sustrato de cerámica proporcione la conductividad eléctrica y la estabilidad térmica necesaria para el rendimiento del dispositivo.
Hongtian Technology Co., Ltd., líder en equipos de recubrimiento de sustrato de cerámica semiconductores de alta gama, se compromete a proporcionar soluciones avanzadas y personalizadas para fabricantes en la industria de semiconductores. Con nuestro enfoque en la fabricación inteligente y la garantía de procesos, nos esforzamos por satisfacer las necesidades específicas de nuestros clientes entregando productos que respalden la creación de componentes semiconductores de alto rendimiento.
Nuestro equipo de recubrimiento de sustrato de cerámica semiconductora garantiza una alta precisión, consistencia y eficiencia en el proceso de pulverización. Al introducir el gas de argón en un recipiente sellado de alto espacio y ionizarlo para generar un flujo de iones de argón, permitimos que una capa compuesta de metal lisa y uniforme se une con el sustrato de cerámica. Esta unión es esencial para garantizar que los sustratos de cerámica puedan manejar los intrincados circuitos que forman la columna vertebral de la tecnología de semiconductores. Los recubrimientos resultantes mejoran la conductividad y la durabilidad de los sustratos, lo que los hace adecuados para su uso en aplicaciones altamente exigentes, como microchips, tecnología LED y dispositivos de energía.
En Hongtian Technology Co., Ltd., entendemos el papel crítico que juegan los sustratos de cerámica semiconductores en el rendimiento de los dispositivos electrónicos. Nuestro equipo avanzado está diseñado para cumplir con los requisitos precisos de esta industria, proporcionando a los fabricantes las herramientas que necesitan para crear productos de alta calidad que funcionen de manera confiable en las condiciones más desafiantes. Al invertir en equipos de recubrimiento de sustrato de cerámica semiconductores de alta gama, nuestros clientes están mejor equipados para mantenerse a la vanguardia en un mercado competitivo al tiempo que garantizan la producción de componentes duraderos de alto rendimiento.

2. ¿Cómo funciona el proceso de recubrimiento para lograr precisión y calidad?
El proceso de recubrimiento utilizado en la producción de sustrato de cerámica de semiconductores es altamente especializado y requiere tecnología avanzada para garantizar un rendimiento óptimo. En Hongtian Technology Co., Ltd., nuestro equipo de recubrimiento utiliza un contenedor sellado de alto vacío, dentro del cual se introduce e ioniza el gas argón para generar iones de argón. Estos iones se dirigen hacia un material objetivo, típicamente de cobre, que forma una capa compuesta de metal delgada en la superficie del sustrato cerámico. Esta capa es el primer paso para preparar el sustrato para la fabricación posterior de circuitos electrónicos.
Nuestro equipo está diseñado para proporcionar el más alto nivel de precisión en este proceso, asegurando que la capa compuesta de metal se aplique uniformemente y que la unión entre el metal y la cerámica sea fuerte y duradera. La técnica de pulverización de iones de argón utilizada en nuestro equipo permite un control fino sobre el grosor y la calidad del recubrimiento de metal, lo que es fundamental para lograr la conductividad necesaria y las propiedades de gestión térmica requeridas por los dispositivos semiconductores.
La precisión de este proceso de recubrimiento es esencial para garantizar que los sustratos de cerámica puedan resistir las demandas eléctricas y las tensiones térmicas que encontrarán en sus aplicaciones finales. Un recubrimiento pobre o desigual podría conducir a defectos, un bajo rendimiento o incluso al fracaso del componente semiconductor final. Esta es la razón por la cual Hongtian Technology Co., Ltd. pone un énfasis tan fuerte en la personalización de alta gama y la fabricación inteligente para satisfacer las necesidades específicas de cada cliente, asegurando que los sustratos de cerámica estén recubiertos con los más altos estándares de calidad en mente.
Nuestro equipo integra tecnologías de garantía de procesos que permiten a los fabricantes monitorear y controlar cada aspecto del proceso de recubrimiento. Desde la introducción del gas argón hasta la aplicación de la capa compuesta de metal, cada paso está cuidadosamente regulado para mantener la consistencia y la precisión. Este nivel de control es esencial para la producción de sustratos de alta calidad que respaldarán la creación de dispositivos semiconductores confiables y duraderos. Al aprovechar nuestra experiencia y tecnología avanzada, nuestros clientes pueden estar seguros de que están utilizando el mejor equipo disponible para el proceso de recubrimiento de sustrato de semiconductores.

3. ¿Cuáles son las ventajas clave del uso de equipos de recubrimiento de alta gama en la producción de semiconductores?
De gama alta Equipo de recubrimiento de sustrato de cerámica semiconductora Ofrece una variedad de ventajas que son cruciales para los fabricantes que tienen como objetivo mantenerse competitivos en la industria de semiconductores en rápida evolución. En Hongtian Technology Co., Ltd., estamos comprometidos a proporcionar soluciones inteligentes de alto rendimiento que ayuden a nuestros clientes a lograr una mayor eficiencia, precisión y confiabilidad en sus procesos de fabricación.
Una de las principales ventajas del uso de equipos de recubrimiento de alta gama es la capacidad de lograr una capa compuesta de metal uniforme de alta calidad en el sustrato de cerámica. Esta uniformidad es esencial para garantizar que el sustrato tenga la conductividad eléctrica necesaria y las propiedades térmicas necesarias para la creación de circuitos semiconductores.
Otra ventaja clave es la mayor eficiencia y velocidad del proceso de recubrimiento. El equipo de Hongtian Technology Co., Ltd. está diseñado para optimizar el proceso de pulverización, reducir el tiempo de inactividad y aumentar el rendimiento sin sacrificar la calidad. Nuestros sistemas de fabricación inteligentes incorporan tecnologías avanzadas de control de procesos que permiten el monitoreo y los ajustes en tiempo real, asegurando que el proceso de recubrimiento se ejecute en eficiencia máxima.
La confiabilidad y la durabilidad de los recubrimientos producidos por equipos de alta gama también son beneficios significativos. La unión fuerte y consistente entre el compuesto metálico y el sustrato cerámico ayuda a mejorar el rendimiento a largo plazo de los dispositivos semiconductores que dependen de estos sustratos. Con nuestro equipo, los fabricantes pueden producir sustratos de cerámica que funcionan bien bajo altas cargas eléctricas, altas temperaturas y otras condiciones exigentes.