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Descripción general de la línea de producción de recubrimiento de magnetrón de magnetrón
El recubrimiento de pulverización de magnetrón continuo es una tecnología avanzada de deposición de película delgada que utiliza un campo magnético para controlar la trayectoria de movimiento de los haces de iones en un entorno de baja presión, logrando la adhesión de pulverización a la superficie del material, formando así una capa de película delgada uniforme, densa y bienvenida en el sustrato. Esta tecnología no solo puede mejorar la dureza, la resistencia al desgaste y la resistencia a la corrosión de los materiales, sino también alterar su óptica,
Propiedades eléctricas y térmicas para satisfacer las necesidades de diferentes campos.
Principio de trabajo
El principio de funcionamiento del revestimiento de pulverización de magnetrón continuo es introducir un campo magnético en la superficie del cátodo objetivo y usar el campo magnético para restringir las partículas cargadas para aumentar la densidad del plasma, aumentando así la velocidad de pulverización. El cátodo acelera los iones de argón y bombardea la superficie del objetivo del cátodo, pulverizando los átomos de la superficie objetivo y depositándolos en la superficie del sustrato para formar una película delgada. Al cambiar los objetivos de diferentes materiales y controlar diferentes tiempos de pulverización, se pueden obtener películas delgadas de diferentes materiales y espesores.
Ventajas técnicas
● Alta tasa de deposición: Debido al uso de electrodos de magnetrón, se puede obtener una corriente de iones de bombardeo objetivo muy grande, lo que resulta en una alta tasa de grabado de pulverización en la superficie objetivo y una alta tasa de deposición de película en la superficie del sustrato.
● Alta eficiencia energética: la probabilidad de colisión entre los electrones de baja energía y los átomos de gas es alta, lo que resulta en un aumento significativo en la tasa de ionización del gas. En consecuencia, la impedancia del gas de descarga (o plasma) se reduce significativamente. Por lo tanto, en comparación con la pulverización de diodos DC, incluso si la presión de trabajo se reduce de 1-10Pa a 10-2-10-1pa, el voltaje de pulverización también se reduce de varios miles de voltios a varios cientos de voltios, y la eficiencia de pulverización y el aumento de la tasa de deposición por órdenes de magnitud.
● Peque de energía pulverización: Debido al bajo voltaje del cátodo aplicado al objetivo, el plasma está confinado por el campo magnético en el espacio cerca del cátodo, suprimiendo así la incidencia de partículas cargadas de alta energía en un lado del sustrato. Por lo tanto, el grado de daño causado a sustratos como los dispositivos semiconductores por bombardeo de partículas cargados es menor que otros métodos de pulverización.
● Aplicación de material amplio: Todos los metales, aleaciones y materiales cerámicos pueden convertirse en materiales objetivo; Mediante la pulsación de magnetrón de corriente continua o radiofrecuencia, los recubrimientos de metal o aleación puro con relaciones precisas y constantes, así como películas de reacción de metal con participación en el gas, se pueden generar para cumplir con los requisitos de películas delgadas diversas y de alta precisión.
Área de aplicación
La tecnología de recubrimiento de pulverización de magnetrón continuo se usa ampliamente en las industrias electrónicas e información, como circuitos integrados, almacenamiento de información, pantallas de cristal líquido, memoria láser, dispositivos de control electrónico, etc. También se puede aplicar en el campo del revestimiento de vidrio; También se puede aplicar a industrias como materiales resistentes al desgaste, resistencia a la corrosión de alta temperatura y productos decorativos de alta gama.
La tecnología continua de revestimiento de esputización de magnetrón juega un papel importante en la industria moderna debido a su alta eficiencia, uniformidad y capacidad de control. Con el avance de la tecnología, esta tecnología continuará impulsando el desarrollo de nuevos materiales y productos, brindando más oportunidades de innovación y desarrollo a diversas industrias.

KOTA Technology Limited Company se estableció en 2012, con un capital registrado de 10 millones de yuanes, es una empresa nacional de alta tecnología. Con sede en Shanghai, China, la compañía tiene una serie de subsidiarias de propiedad total y de propiedad en Nantong, Yancheng y otros lugares en la provincia de Jiangsu, y ha establecido centros de I + D en China y Japón para diseñar el mercado global. En la actualidad, la compañía se ha convertido en un conocido fabricante doméstico de equipos inteligentes de energía nueva y es una empresa en el campo de los equipos de lámina de cobre de litio en el país. El equipo técnico central de la compañía dirigido por el Sr. Matsuda Mitsuya en Nagoya, Japón, se centra en el desarrollo e integración de equipos de fabricación de alta gama y sistema de automatización en el campo de equipos electromecánicos de alta precisión. A través de la introducción de conceptos japoneses de tecnología avanzada y diseño y la importación de piezas de precisión originales de Japón, los diversos productos de equipos producidos por la compañía se han convertido en puntos de referencia de la industria.






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Ver más 1. ¿Qué es el revestimiento de pulverización de magnetrón continuo y cómo funciona?
Línea de producción de recubrimiento de magnetrón de pulverización es una técnica de deposición de película delgada avanzada y altamente precisa utilizada para mejorar las propiedades del material. Funciona introduciendo un campo magnético en la superficie de un cátodo objetivo, guiando el movimiento de iones en un entorno de baja presión. Esto da como resultado un proceso de pulverización donde los átomos del objetivo se expulsan bombardeándolos con iones de argón acelerados y posteriormente depositados en un sustrato. Esta capa de película delgada se puede personalizar para cumplir con el grosor requerido y las especificaciones del material variando los tiempos de pulverización y el uso de diferentes materiales objetivo.
En Hongtian Technology Co., Ltd., entendemos la importancia de tecnologías de fabricación avanzadas como el revestimiento de pulverización de magnetrón continuo en la industria moderna. Como una empresa especializada en equipos y soluciones electromecánicas de vanguardia, estamos comprometidos a ofrecer productos de alta calidad que aprovechen las últimas tecnologías. Nuestras capacidades de producción avanzada incluyen un taller de producción y almacén totalmente equipado, asegurando que nuestros productos cumplan con los más altos estándares de calidad y eficiencia. Nuestro nuevo Parque de Equipos de Foil Electro-Copper de alta gama, ubicado en la provincia de Yancheng, Jiangsu, es parte de nuestro esfuerzo continuo para mejorar nuestras ofertas de tecnología. Esta instalación nos permitirá integrar aún más las tecnologías de recubrimiento avanzadas, incluida la pulverización de magnetrón, en el desarrollo de materiales de próxima generación y equipos inteligentes para las industrias de energía y electrones.
El principio de funcionamiento de la pulverización del magnetrón implica controlar el plasma y la densidad de iones de manera altamente eficiente. Los iones acelerados del cátodo golpean el material objetivo, lo que hace que los átomos objetivo se expulsen y luego se depositen en una superficie del sustrato. La uniformidad y la densidad de la capa de película delgada formada son atributos clave de este proceso, lo que lo hace ideal para aplicaciones que requieren propiedades de material consistentes, como resistencia al desgaste, resistencia a la corrosión y características ópticas o eléctricas mejoradas. Esta versatilidad permite que los recubrimientos se apliquen a una amplia gama de sustratos, proporcionando personalización y precisión en industrias como electrónica, automotriz y energía.
2. ¿Cuáles son las ventajas técnicas clave de la pulverización continua del magnetrón?
El uso de electrodos de magnetrón crea una gran corriente de bombardeo de iones, lo que lleva a un proceso de pulverización acelerado y mayores tasas de deposición. Esto es particularmente beneficioso en entornos de producción a gran escala donde la eficiencia y la velocidad son cruciales.
La pulverización de magnetrón proporciona una alta eficiencia de energía. La colisión de electrones de baja energía con átomos de gas produce una mayor tasa de ionización de gas, lo que a su vez reduce la impedancia del plasma de descarga. Esta reducción en la impedancia significa que el proceso de pulverización funciona a voltajes y presiones más bajos, lo que resulta en una mayor eficiencia y un consumo de energía reducido. En Hongtian Technology Co., Ltd., ponemos un gran énfasis en la eficiencia energética, ya que afecta directamente los costos de producción y la sostenibilidad. Nuestra inversión continua en instalaciones de fabricación de última generación, como nuestro nuevo parque de equipos de alta gama en Jiangsu, nos ayuda a optimizar aún más el uso de energía y mejorar el rendimiento de los equipos que suministramos a nuestros clientes en todo el mundo.
Otra ventaja clave es la pulsación de baja energía, lo que resulta en un proceso de deposición más controlado. El campo magnético limita el plasma cerca del cátodo, reduciendo el bombardeo de partículas de alta energía en el sustrato. Esta característica es especialmente importante cuando se trabaja con materiales sensibles como los semiconductores, donde la exposición a las partículas de alta energía puede causar daño. Como una empresa se comprometió a proporcionar soluciones personalizadas de alto rendimiento para industrias que van desde la electrónica hasta la automoción, Hongtian Technology Co., Ltd. integra tecnologías como el magnetrón pulverizando en nuestras ofertas de productos para garantizar que cumplamos con los estándares de la más alta calidad al tiempo que minimizamos los riesgos a los materiales delicados.
La aplicabilidad del material amplio es otra razón para la adopción generalizada de la pulverización continua de magnetrón. El proceso es lo suficientemente versátil como para acomodar varios materiales objetivo, incluidos metales, aleaciones y cerámica. Esta flexibilidad permite la producción de películas delgadas con propiedades específicas, incluidos recubrimientos metálicos, películas de aleación y películas de reacción, que son cruciales para las industrias que requieren recubrimientos de alta precisión, como aeroespaciales, automotrices y telecomunicaciones.
3. ¿Cuáles son las aplicaciones principales del revestimiento de pulverización de magnetrón continuo?
Las aplicaciones del revestimiento de pulverización de magnetrón continuo son vastas y diversas, que abarcan múltiples industrias. Uno de los campos más destacados es la industria electrónica e información, donde esta tecnología se usa ampliamente en la fabricación de componentes como circuitos integrados, semiconductores y dispositivos de almacenamiento de información. En estas aplicaciones, la capacidad de producir películas delgadas con propiedades eléctricas y ópticas a medida es crítica. La pulverización del magnetrón permite un control preciso sobre el grosor de la película y la composición del material, lo que lo hace ideal para crear recubrimientos con conductividad, transparencia o propiedades reflexivas específicas.
En Hongtian Technology Co., Ltd., reconocemos la importancia de la innovación continua en sectores como la electrónica. Nuestras propias capacidades de producción, incluido el nuevo parque de equipos de alta gama en Jiangsu, nos permitirán continuar impulsando la innovación en áreas como la fabricación electrónica, donde la precisión y la personalización de materiales son primordiales. Estamos dedicados a desarrollar soluciones de vanguardia que integren las últimas tecnologías, incluida la pulverización de magnetron, para proporcionar a nuestros clientes productos de alta calidad que satisfagan las demandas de las aplicaciones modernas.
Otra aplicación significativa es el recubrimiento de vidrio, particularmente para vidrio arquitectónico y automotriz. Las películas delgadas creadas a través de la pulverización del magnetrón pueden mejorar la durabilidad, la funcionalidad y la apariencia de las superficies de vidrio. Esto incluye recubrimientos antirreflectantes, protección UV y capas de aislamiento térmico. Estos recubrimientos no solo mejoran el atractivo estético, sino que también contribuyen a la eficiencia energética al reducir la absorción de calor y mejorar la resistencia del vidrio.
Además de la electrónica y los recubrimientos de vidrio, la pulverización del magnetrón también se usa ampliamente en el campo de los materiales resistentes al desgaste. Esta tecnología permite la creación de recubrimientos duros y duraderos que mejoran la resistencia al desgaste de los componentes expuestos a alta fricción, como piezas automotrices, maquinaria industrial y herramientas de corte. La alta resistencia de adhesión de las películas delgadas producidas a través de la pulverización de magnetrón asegura que estos recubrimientos permanezcan intactos en condiciones operativas exigentes, extendiendo así la vida útil de los componentes.